A fabricante holandesa de equipamentos semicondutores ASML disse na terça-feira que a Intel decidiu usar seu equipamento de litografia de última geração para fabricar alguns dos principais chips para notebooks Panther Lake. A mudança tem como objetivo ajudar a gigante dos chips a dominar o uso desse equipamento avançado de forma mais eficiente na prática.
ASML disse que após o lançamento de experimentos relevantes em 2024, a Intel agora começou a colocar em uso sua nova geração de máquinas de litografia ultravioleta extremo (EUV) de alta abertura numérica (High NA). O equipamento é usado principalmente para imprimir padrões de microcircuitos em microchips para auxiliar na produção de alguns processadores Panther Lake.
Tem havido um debate na indústria de semicondutores sobre quando faz sentido comercial implantar equipamentos de alto NA. No entanto, à medida que os fabricantes de chips continuam a reduzir o tamanho da microestrutura de nível atômico dentro do chip, tais equipamentos se tornarão uma necessidade urgente na indústria no futuro. É relatado que o custo de uma única máquina de litografia de alto NA chega a aproximadamente US$ 400 milhões, o que é o dobro do preço do equipamento EUV padrão, e sua introdução no processo de produção real também enfrenta grandes desafios técnicos.
Atualmente, a Intel usa principalmente equipamentos High NA em camadas específicas do chip. Essa mudança ajudará a Intel e a ASML a coletar dados de teste e otimizar continuamente o equipamento. A Intel se recusou a comentar a notícia.
Entende-se que a Intel está usando seu processo de fabricação 18A para produzir chips Panther Lake e já usou a máquina de litografia EUV padrão da ASML na produção (o processo de litografia usa principalmente luz para desenhar padrões complexos que compõem os circuitos do chip). Já em 2024, a Intel recebeu o primeiro equipamento High NA em seu centro de P&D em Hillsboro, Oregon. O centro também é a base central para a Intel desenvolver novos processos e tecnologias de fabricação.