Resumo:
A Samsung Electronics disse na terça-feira que se juntou a uma aliança liderada pela fabricante holandesa de equipamentos de semicondutores ASML para desenvolver em conjunto tecnologia de fabricação de semicondutores de próxima geração. A gigante tecnológica sul-coreana disse que a colaboração visa avançar no desenvolvimento da tecnologia de máscara fotográfica de 12 polegadas para substituir o formato de máscara fotográfica de 6 polegadas que tem sido amplamente utilizado há décadas.
A Samsung disse em um comunicado à imprensa: "Com base em anos de cooperação bem-sucedida, as duas empresas trabalharão juntas para avançar na pesquisa, no desenvolvimento e na implantação de tecnologias avançadas para atender aos crescentes requisitos de desempenho e eficiência da fabricação avançada de semicondutores."
Espera-se que essa tecnologia melhore a eficiência da produção fabril e reduza os custos de fabricação de chips em meio ao aumento na demanda por chips de inteligência artificial (IA).
O CEO da Samsung Electronics, Jeon Young-hyun, disse: "A era da inteligência artificial está remodelando a indústria de semicondutores, tornando a inovação tecnológica em toda a cadeia de valor cada vez mais importante. Ao fortalecer ainda mais nossa cooperação com a ASML, estamos estabelecendo as bases para a próxima geração de inteligência artificial e inovação em semicondutores."
A Samsung também planeja aplicar a tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV) de alta abertura numérica (High NA) da ASML à produção em massa de memória dinâmica de acesso aleatório (DRAM) pela primeira vez até 2028.
Espera-se que a tecnologia EUV de alta abertura numérica promova a expansão dos processos DRAM, fornecendo maior resolução, alcançando simplificação de processos e maior eficiência de fabricação.
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