De acordo com relatos da mídia, a gigante holandesa ASML, fabricante de equipamentos de semicondutores, confirmou queEntregue o primeiro sistema de litografia ultravioleta extremo (EUV) de alta abertura numérica (NA) para a Intel.A abertura numérica é usada para medir a faixa angular de luz que um sistema óptico pode coletar.Ao aumentar a abertura numérica, resoluções menores e maior poder de resolução podem ser alcançadas,Atendendo assim aos requisitos da microusinagem.
Segundo relatos,O custo de cada nova máquina ultrapassa US$ 300 milhões (aproximadamente 2,14 bilhões de yuans).Ele pode atender às necessidades dos fabricantes de chips de primeira linha e fabricar chips menores e melhores nos próximos dez anos.
A ASML divulgou uma foto de parte da máquina saindo de sua sede em Wildhoven, na Holanda, em uma caixa protetora com uma fita vermelha ao redor.
ASML também disse: “Estamos entusiasmados e orgulhosos de entregar nosso primeiro sistema EUV de alta abertura numérica para a Intel”.
Quando montada, a máquina será maior que um caminhão.Ele será enviado em 250 caixas individuais, incluindo 13 contêineres grandes, e deverá ser usado na fabricação comercial de chips a partir de 2026 ou 2027.
Além da Intel,TSMC, Samsung, SK Hynix e Micron também encomendaram esta máquina.